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无锡吴越半导体氮化镓GaN晶体出片,全球首例厚度突破1厘米

来源:IT之家    发布时间:2021-12-17 14:45   阅读量:10244   

12 月 15 日,吴越半导体 GaN 晶体出片仪式在无锡高新区举行。

无锡吴越半导体氮化镓GaN晶体出片,全球首例厚度突破1厘米

据无锡高新区消息,仪式上,吴越半导体展出了全球范围内首次厚度突破 1 厘米的氮化镓晶体,并与君联资本,新投集团签署 A 轮融资战略框架协议。

无锡吴越半导体有限公司成立于 2019 年,是无锡先导集成电路装备材料产业园首个落户的项目,公司专注于氮化镓自支撑衬底的开发,生产和销售。10月19日,纳微半导体完成了与LiveOakAcquisitionCorp.II的业务合并。。

2020 年 2 月,吴越半导体,先导集团与高新区管委会签订合作协议,在无锡高新区实施 2—6 英寸氮化镓自支撑单晶衬底产业化项目,项目建成投产后,可填补无锡市在第三代化合物半导体氮化镓原材料领域的空白。据悉,纳微半导体成立于2014年,是氮化镓功率芯片的行业领导者,拥有一支功率半导体行业的专家团队,在材料,器件,应用,系统和市场营销方面合计拥有超过300年的经验。此外,公司创始人合计拥有超过200项专利。

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责任编辑:叶知秋